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專利保護、創(chuàng)新與經(jīng)濟增長:基于上下游技術(shù)溢出模型的分析

經(jīng)濟研究 頁數(shù): 17 2024-11-25
摘要: 本文構(gòu)建了一個考慮上下游技術(shù)溢出的內(nèi)生經(jīng)濟增長模型,研究專利保護對創(chuàng)新和經(jīng)濟增長的影響。專利保護既會影響上下游的技術(shù)溢出,也會改變熟練勞動力在上下游的配置,進而影響創(chuàng)新和經(jīng)濟增長。專利保護與創(chuàng)新、經(jīng)濟增長的關(guān)系呈倒U型,最大化經(jīng)濟增速的專利保護組合要確保上下游利潤合理分配,使技術(shù)溢出更強的部門獲得更多利潤。上游專利保護會產(chǎn)生嚴(yán)重的壟斷扭曲,政府可以通過補貼的方式擴大上游生產(chǎn),緩... (共17頁)

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