電子超純水制備過(guò)程典型痕量有機(jī)污染物去除機(jī)理
工業(yè)水處理
頁(yè)數(shù): 5 2023-11-17
摘要: 基于某12寸半導(dǎo)體超純水中試線,對(duì)超純水系統(tǒng)各處理單元總有機(jī)碳(TOC)去除過(guò)程及有機(jī)組分分子質(zhì)量分布情況進(jìn)行了跟蹤檢測(cè),探究了有機(jī)碳紫外降解(TOC-UV)裝置照射強(qiáng)度、水力停留時(shí)間和有機(jī)物分子鍵能對(duì)水中典型痕量有機(jī)污染物去除效果的影響。結(jié)果表明:兩級(jí)反滲透(RO)系統(tǒng)可去除98.5%的TOC,一級(jí)RO產(chǎn)水中含有97.3%分子質(zhì)量低于350 u的中性小分子物質(zhì);在一定范圍內(nèi)提... (共5頁(yè))