CMP拋光墊表面及材料特性對拋光效果影響的研究進展

摘要： 對化學機械拋光(CMP)工藝中的拋光墊特性、劣化以及修整進行了簡單闡述，重點先從拋光墊表面特性(拋光墊表面微形貌、微孔及拋光墊的結構、表面溝槽紋理的形狀、微凸體的分布)和材質特性(硬度、彈性模量和化學性能)入手，對近年來國內(nèi)外的實驗研究與理論模擬分析兩方面進行了概括，總結了目前各個特性參數(shù)對拋光墊性能以及對CMP過程影響的進展，此外，從機械磨損和化學腐蝕兩方面對拋光墊的劣化機理...