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電解液濃度對(duì)光電極表面氣泡演化及傳質(zhì)特性的影響

物理學(xué)報(bào) 頁(yè)數(shù): 10 2024-08-14
摘要: 在光電化學(xué)分解水反應(yīng)中,氣泡會(huì)覆蓋光電極表面的反應(yīng)區(qū)域,從而影響反應(yīng)阻抗和氣液傳質(zhì).本文搭建了激光照射系統(tǒng),并將其與電化學(xué)工作站、高速顯微成像系統(tǒng)耦合.在不同電解液濃度下(Na2SO4, 0.1—2.0 mol/L),研究了TiO2析氣光電極表面單個(gè)氧氣泡的演化行為及其傳質(zhì)特性.隨著電解液濃度從0.1 mol/L升高到2.0 mol/L,溶液電阻與氣泡附加電阻降低,氣泡穩(wěn)...

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