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分子束外延設(shè)備國內(nèi)外進(jìn)展及展望

人工晶體學(xué)報 頁數(shù): 10 2024-08-01
摘要: 分子束外延(MBE)設(shè)備具有超高真空、超高精度、超高均勻性薄膜沉積等特點(diǎn),是化合物半導(dǎo)體材料、器件制造的核心工藝裝備,被廣泛用于固態(tài)微波射頻器件、半導(dǎo)體激光器、探測器等外延薄膜制備。本文在簡要介紹MBE設(shè)備及技術(shù)特點(diǎn)的基礎(chǔ)上,首先詳細(xì)闡述了Riber、Veeco、DCA等國際知名廠商的MBE設(shè)備發(fā)展歷程及產(chǎn)品現(xiàn)狀;接著對中國電科48所(CETC48)、沈陽科儀(SKY)、費(fèi)勉儀... (共10頁)

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