基于poly-Si鍵合層的SACM型Ge/Si APD的優(yōu)化設計研究
中國激光
頁數(shù): 14 2023-11-15
摘要: Ge/Si雪崩光電二極管(APD)被廣泛應用于近紅外探測領域,但由于Ge和Si之間存在4.2%的晶格失配,故難以獲得高性能的Ge/Si APD。提出在Ge/Si鍵合界面處引入多晶硅(poly-Si)鍵合中間層,弱化Ge/Si失配晶格對APD器件性能的影響。poly-Si引入后鍵合界面電場發(fā)生變化,導致APD內部的電場重新分布,極大地影響了器件性能。因此,重點對Ge吸收層和Si倍...