用于應(yīng)力雙折射分布測(cè)量的多構(gòu)型掃描系統(tǒng)設(shè)計(jì)

摘要： 為了實(shí)現(xiàn)對(duì)不同構(gòu)型光學(xué)樣品進(jìn)行應(yīng)力雙折射分布測(cè)量，在使用雙彈光調(diào)制方法的基礎(chǔ)上，設(shè)計(jì)了一種應(yīng)用于雙折射分布測(cè)量的多構(gòu)型掃描系統(tǒng)。該系統(tǒng)在保證測(cè)量的高分辨率的同時(shí)，通過(guò)保持激光器靜止，同時(shí)使樣品進(jìn)行快速移動(dòng)，提高了測(cè)量精度與廣度。在樣品測(cè)量方面，采用633 nm(1/4)玻片測(cè)試，測(cè)試相對(duì)誤差的范圍為0.79%～0.95%，波動(dòng)范圍為0.12 nm，標(biāo)準(zhǔn)差為0.035 2；采用B... （共8頁(yè)）