用于應力雙折射分布測量的多構型掃描系統(tǒng)設計

摘要： 為了實現(xiàn)對不同構型光學樣品進行應力雙折射分布測量，在使用雙彈光調制方法的基礎上，設計了一種應用于雙折射分布測量的多構型掃描系統(tǒng)。該系統(tǒng)在保證測量的高分辨率的同時，通過保持激光器靜止，同時使樣品進行快速移動，提高了測量精度與廣度。在樣品測量方面，采用633 nm(1/4)玻片測試，測試相對誤差的范圍為0.79%～0.95%，波動范圍為0.12 nm，標準差為0.035 2；采用B... （共8頁）