海量資源,盡在掌握
 用一定能量的中子、帶電粒子或γ射線等照射材料,通過選擇的核反應在基體中生成原來不存在的新元素,達到半導體材料的摻雜目的。目前,只有中子嬗變摻雜(NDT)得到了實際應用。此方法的原理是K.拉克-霍羅維茨于1951年提出的 (本文共 581 字 ) [閱讀本文] >>