上頜(圖4-28)在模型上標(biāo)記基托邊緣線后,在最小范圍內(nèi)用紅蠟片完成填倒凹。緩沖過(guò)多容易導(dǎo)致暫基托吸附力下降。圖4-28 上前牙唇側(cè)部位有側(cè)凹,其余部位無(wú)明顯倒凹。用紅蠟緩沖上前牙唇側(cè)部位的倒凹下頜(圖4-29)在模型上標(biāo)記基托 (共 196 字) [閱讀本文] >>
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 上頜(圖4-28)在模型上標(biāo)記基托邊緣線后,在最小范圍內(nèi)用紅蠟片完成填倒凹。緩沖過(guò)多容易導(dǎo)致暫基托吸附力下降。圖4-28 上前牙唇側(cè)部位有側(cè)凹,其余部位無(wú)明顯倒凹。用紅蠟緩沖上前牙唇側(cè)部位的倒凹下頜(圖4-29)在模型上標(biāo)記基托 (共 196 字) [閱讀本文] >>